PBATCH 批次等离子体ALD
产品概况
可实现低温高质量的等离子体增强原子层沉积工艺，兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺，可在玻璃、有机材料、高分子材料、金属或陶瓷等材质的基底沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的薄膜。该设备具有极优的镀膜均匀性、重复性及可靠性，同时兼顾行业领先的产能及良率。
技术优势
可见光范围内反射率R<0.1%
镀膜均匀性、重复性及可靠性业界领先
最大样品尺寸12寸,实现全自动、多片、大批量生产
可在整个镜片的外表面及3D微纳结构上进行保形沉积
批次性多腔结构设计大幅提高产能，显著降低ALD技术的使用成本
可在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意组合交替沉积
应用领域
FAQ
PBATCH主要应用在什么领域?
应用与光学模组、镜头、传统COB、先进封装等
PBATCH可以做AR膜层吗?
可以。极致AR膜层全反射率，可见光波段内，反射率<0.1%
