应用领域
APPLICATIONS
先进光显
韫茂自主研发的批次式 Thermal ALD 及 PEALD，可应用于 Mini/Micro LED、先进光学、AR/VR 等前沿领域。设备可实现纳米级精度的薄膜沉积控制与高效量产能力的统一，为行业在突破产能瓶颈与产品性能上提供关键技术支撑。以核心产品批次等离子体 ALD 为例，其采用自主创新的多腔体协同沉积技术，可在复杂基 底表面实现厚度偏差 <1% 的均匀成膜。特别在光学薄膜领域，该设备成功攻克可见光波段平均反射率R<0.1% 的超低反射光学薄膜沉积工艺，相较传统技术将光损耗降低 60% 以上，为高清光学成像、极端复杂光学条件下的可靠成像、衍射波导、超透镜等新一代光学器件的量产提供了创新型工艺解决方案。
相关产品
PBATCH 批次等离子体ALD
可实现低温高质量的等离子体增强原子层沉积工艺，兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺，可在玻璃、有机材料、高分子材料、金属或陶瓷等材质的基底沉积SiO2、Al2O3、TiO2等高质量的薄膜。该设备具有极优的镀膜均匀性、重复性及可靠性，同时兼顾行业领先的产能及良率。
CBATCH 300s 批次热ALD
多片批次式ALD，能够实现全自动、多片、连续化生产，有效提高产能，降低COO；能够实现原子级别的精确控制，ALD沉积薄膜无针孔，质量高，可作为高K值介质层，金属层，封装层，电镀种子层及其他功能层应用，广泛应用于Mini/Micro LED, 第三代半导体，以及集成电路制造等领域。
CBATCH 100s 批次热ALD
4/6 inch LED 生产线的原子层沉积系统，面向图形化和平面蓝宝石衬底微纳器件氧化层封装镀膜的需要。
