SCA 工业级粉末CVD
产品概况
进行硅沉积/碳包覆，可实现高沉积均匀性与高包覆完整性，具备优异的批次稳定性与重复性
技术优势
样品最大装载量：10-50KG 多孔碳（可根据需求定制）
样品反应温度：RT-800℃
反应气：最多5路反应气体（硅烷、乙炔、氮气等）
前驱体加热最高温度：RT-200℃
沉积时间：5-8小时
应用领域
FAQ
SCA的温度均匀性如何？
采用多温区控制设计，可优化温度均匀性，温区控温误差小于1度。
硅碳负极生产的均匀性如何？
优化分布板设计，可有效减小气泡尺寸，增大气固反应效率，确保硅碳沉积均匀性
SCA的使用安全性如何？
设备设计基于半导体级设计标准以及防爆设计标准，设备自动化程度高，可最大限度保证设备安全运行。
