PBATCH-350S 批次等离子体ALD
产品概况
PBATCH可实现低温高质量PEALD工艺，兼容热式ALD及等离子体增强ALD工艺，极佳的镀膜均匀性，实现原子级别的精确控制，批次性大产能结构设计，大幅提高ALD产能，降低客户使用成本。单位时间内的处理量超越传统PVD镀膜设备。
技术优势
可沉积可见光范围内反射率R<0.05%的光学薄膜
可在整个镜片的外表面及3D 微纳结构上进行保形沉积
在同一工艺腔室内实现等离子体清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意组合交替沉积
14寸物料盘，批次可装载60盘以上，产能业界领先
在玻璃、陶瓷、金属等材质的基底沉积多种类型的ALD薄膜
应用领域
FAQ
PBATCH主要应用在什么领域?
应用与光学模组、镜头、传统COB、先进封装等
PBATCH可以做AR膜层吗?
可以。极致AR膜层全反射率，可见光波段内，反射率<0.1%
相关产品
CBATCH 300X 批次热ALD（多腔）
CBATCH-300X是韫茂科技与国内头部三代半导体厂联合开发的多片多腔体批次式ALD，能够实现全自动、多片、多腔体、连续化生产，有效提高产品颗粒洁净度，产能，降低COO。批次热式ALD能够实现原子级别的精确控制，ALD沉积薄膜无针孔，质量高，可作为高K值介质层，金属层，封装层，电镀种子层及其他功能层应用， 广泛应用于Mini/Micro LED, 第三代半导体，以及集成电路制造等领域。
CBATCH 100X 批次热ALD（单腔）
CBATCH-100X 是用于4/6 inch LED 生产线的原沉积系统，该系统主要由工艺腔、运动控制系统和上下料平台组成，满足于图形化和平面蓝宝石衬底微纳器件氧化层封装镀膜的需求。其中工艺模块用于为基片进行工艺提供环境。
