工业型设备
研发型设备
ALD
Plasma Batch ALD
PBATCH-350S 批次等离子体ALD
PBATCH-A300 批次等离子体ALD（EFEM）
Multi PBATCH 批次等离子体ALD（EFEM可选）
Thermal Batch ALD
CBATCH 100X 批次热ALD（单腔）
CBATCH 300X 批次热ALD（多腔）
12 inch ALD
QBT-A 300 CLUSTER 8/12英寸 ALD 集群系统
CVD
MPCVD 金刚石微波等离子体CVD
Epitaxy
SICE-Y8 工业型碳化硅外延CVD
Powder ALD/CVD
KG 工业型粉末ALD
SCA 工业型硅碳负极流化床CVD
PVD
QBT-J 300 Cluster 8/12英寸双倾角集群系统
QBT-P300 Cluster 8/12英寸磁控溅射集群系统
Single Wafer ALD
QBT-A 单面高真空等离子体ALD
QBT-ADS 双面高真空等离子体ALD设备
TEM 桌面式ALD
Sputter
单阴极垂直溅射系列
PVD100 双腔室高真空磁控溅射系统
QBT-P 双腔室超高真空磁控溅射系统
QBT-PL3 三腔室超高真空磁控溅射系统
多阴极垂直溅射系列
QBT-MPV 双腔室多靶枪公转超高真空磁控溅射系统
多阴极共聚焦溅射系列
QBT-MPC 2000 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射镀膜系统
QBT-MPC 双腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
离子束溅射系列
QBT-IBS 超高真空离子束溅射系统
离轴溅射系列
QBT-OAS 离轴磁控溅射系统
定制系列（MP L）
QBT-MPL3 三腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
QBT-MPL4 四腔室多靶枪共聚焦超高真空磁控溅射系统
Evaporator
QBT-J 四腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-J Compact 紧凑型双腔室双倾角超高真空镀膜系统
QBT-E 双腔室超高真空电子束蒸发镀膜系统
QBT-I 双腔室高速铟蒸发超高真空镀膜系统
QBT-I 双腔室高速热蒸发镀铟系统
PECVD
QBT-C200 等离子体增强PECVD
Powder ALD
GM 研发型粉末ALD
QBT-T 双腔室等离子体硅片及粉末ALD
产品
韫茂——微纳加工研发首选
产品分类
Powder ALD 相关产品
GM系列自动粉末原子层沉积设备可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长。该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
用于微纳加工，粉末或极片包覆。
