KG 工业型粉末ALD

KG 工业型粉末ALD可定制10-500kg粉末原子层沉积包覆。

SCA 工业型硅碳负极流化床CVD

采用流化床化学气相沉积技术，进行硅沉积/碳包覆，可实现高沉积均匀性与高包覆完整性，具备优异的批次稳定性与重复性。

TEM 桌面式ALD

TEM 桌面式ALD是一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式ALD系统，它可以在4寸晶圆和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。微纳加工首选工具。

GM 研发型粉末ALD

GM系列自动粉末原子层沉积设备可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长。该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。